拓荆科技(688072)股票信息|查股网

◆最新指标 (2026年7月增发后)◆

每股收益(元) :4.6194	目前流通(万股) :28269.30
每股净资产(元) :43.7448	总股本(万股) :29067.90
每股公积金(元) :30.2939	营业收入(万元) :291286.43
每股未分配利润(元) :12.8168	营收同比(%) :49.06
每股经营现金流(元) :0.3972i	净利润(万元) :134275.40
净利率(%) :45.35	净利润同比(%) :1324.10
毛利率(%) :41.00	净资产收益率(%) :18.11

◆上期主要指标◆

◇2026一季◇

每股收益(元) :2.0300	扣非每股收益(元) :0.3612
每股净资产(元) :25.6364	扣非净利润(万元) :10211.43
每股公积金(元) :14.2359	营收同比(%) :56.97
每股未分配利润(元) :10.7759	净利润同比(%) :488.29
每股经营现金流(元) :-1.8389	净资产收益率(%) :8.25
毛利率(%) :41.69	净利率(%) :50.54

◆ 公司概要 ◆

证监会行业：行业：	制造业->专用、通用及交通运输设备->专用设备制造业专用设备入选理由：公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。自成立以来，公司始终坚持自主研发、自主创新，一直在高端半导体专用设备领域持续深耕、拓展，重点聚焦薄膜沉积设备和应用于三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备（以下统称“三维集成设备”）的研发与产业化。公司积极把握半导体芯片技术迭代升级与国产替代的发展机遇，依托深厚的技术储备及前瞻性的产业格局，积极拓展应用于集成电路先进制程领域的新产品、新工艺，目前已构建了较为完善的薄膜沉积设备、三维集成设备的产品矩阵。	所属地域:	辽宁
主营业务：
题材概念:	集成电路入选理由：公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。自成立以来，公司始终坚持自主研发、自主创新，一直在高端半导体专用设备领域持续深耕、拓展，重点聚焦薄膜沉积设备和应用于三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备（以下统称“三维集成设备”）的研发与产业化。公司积极把握半导体芯片技术迭代升级与国产替代的发展机遇，依托深厚的技术储备及前瞻性的产业格局，积极拓展应用于集成电路先进制程领域的新产品、新工艺，目前已构建了较为完善的薄膜沉积设备、三维集成设备的产品矩阵。、半导体入选理由：公司依托自主核心技术体系，构建了完善的产品矩阵。在薄膜沉积设备领域，推出了PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、FlowableCVD为核心的全系列薄膜沉积设备，其中，PECVD设备已实现薄膜材料的全面覆盖，在集成电路逻辑芯片、存储芯片等领域广泛应用；在ALD设备方面，推出了等离子体增强原子层沉积（PE-ALD）和热处理原子层沉积（Thermal-ALD）设备并实现量产，目前国内装机量及工艺覆盖均领先；HDPCVD、SACVD、Flowable CVD设备可实现芯片内不同深浅三维结构的填充需求，已在多条产线实现产业化应用。在三维集成设备领域，推出的晶圆对晶圆混合键合设备、熔融键合设备等系列产品已成功应用于先进存储、图像传感器等领域，可以为后摩尔时代技术发展提供支撑。、中芯国际概念入选理由：公司产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线，打破国际厂商对国内市场的垄断，与国际寡头直接竞争。公司在研产品已发往某国际领先晶圆厂参与其先进制程工艺研发。目前，全球半导体薄膜沉积设备市场由应用材料、泛林半导体、东京电子、先晶半导体等海外公司占据主导地位。、大基金概念入选理由：截至2025年12月末，国家集成电路基金持有公司16.03%的股份。、半导体设备入选理由：公司已构建较为完善的薄膜沉积设备、三维集成设备的产品矩阵，并实现国产化与规模化应用。薄膜沉积设备方面，公司凭借优异的产品性能表现持续获得客户订单，不断扩大量产规模。截至报告期末，公司产品已进入约100条芯片制造厂生产线；累计出货反应腔已超过3,400个，且应用于先进制程领域的高性能反应腔占比不断提高；在客户端产线生产产品的累计流片量已突破4.57亿片；客户端设备平均稳定运行时间（Uptime）超过90%（达到国际主流水平）。此外，在三维集成设备方面，公司推出多款核心产品，相关产品陆续通过客户验证并进入稳步放量阶段，是国内先进混合键合设备领域技术领先厂商。。
风格概念:	基金重仓入选理由：拓荆科技2026-07-03十大股东中基金持股1477.3249万股，占总股本5.07% 、大盘入选理由：拓荆科技 2026-08-28收盘市值1945.49亿元,全市场排名86 、沪深300 入选理由：公司为沪深300指数成分股、增持回购入选理由：公司公告股东有增持或者回购行为、百元股入选理由：拓荆科技2026-08-28收盘价669.29元,全市场排名第9 、融资融券入选理由：拓荆科技 2026年8月28日融资净买入-4438.76万元,当前融资余额:170855.71万元、年度强势。

◆控盘情况◆

	2026-06-30	2026-03-31	2025-12-31	2025-09-30

股东人数 (户)	34078	17104	22606	25220
人均持流通股(股)	8295.5	16507.5	12437.6	11091.6
人均持流通股 (去十大流通股东)	4340.9	8390.0	6072.8	5424.1

点评:

2026年中报披露，前十大股东持有13480.57万股，较上期减少48.20万股，占总股本比47.68%，主力控盘强度一般。
截止2026年中报合计864家机构，持有17693.87万股，占流通股比62.59%；其中852家公募基金，合计持有5702.70万股，占流通股比20.17%。
股东户数34078户，上期为17104户，变动幅度为99.2399%

◆概念题材◆

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【高端半导体专用设备制造商】公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。自成立以来，公司始终坚持自主研发、自主创新，一直在高端半导体专用设备领域持续深耕、拓展，重点聚焦薄膜沉积设备和应用于三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备（以下统称“三维集成设备”）的研发与产业化。公司积极把握半导体芯片技术迭代升级与国产替代的发展机遇，依托深厚的技术储备及前瞻性的产业格局，积极拓展应用于集成电路先进制程领域的新产品、新工艺，目前已构建了较为完善的薄膜沉积设备、三维集成设备的产品矩阵。
更新时间：2026-08-06 15:39:26

【拟收购无锡尚积100%股份】2026年7月，公司拟通过发行股份及支付现金方式购买无锡尚积82.97%股份、上海泰纳微100%股权(持股平台，除持有无锡尚积 11.54%股份外无其他业务)和无锡宽行100%股权(持股平台，除持有无锡尚积 5.49%股份外无其他业务)，并向不超过35名特定投资者发行股份募集配套资金。本次交易后，上市公司将直接及间接持有无锡尚积100%股份。无锡尚积主要产品包括PVD、CVD工艺薄膜沉积设备与刻蚀设备，目前产品和收入结构以PVD设备为主，其PVD设备产品在功率半导体、MEMS、射频芯片等细分领域具有国内领先地位和突出市场竞争优势；刻蚀领域目前聚焦干法刻蚀设备，主要应用于MEMS领域，并逐渐向功率器件、射频器件、先进封装等领域拓展；CVD设备，适用于射频、功率器件、先进封装等领域，目前处于产品研发和客户导入阶段。本次交易将快速补齐上市公司核心产品线，完善对主流薄膜沉积工艺和三维集成领域关键设备的覆盖，进一步加强在半导体设备领域的战略布局。
更新时间：2026-08-06 15:39:21

【定增募资扩大高端半导体设备产能】2026年6月，公司完成以576.01元/股向特定对象发行7,985,972股，募集资金总额4,599,999,731.72元。扣除发行费用后的募集资金净额拟投入高端半导体设备产业化基地建设项目、前沿技术研发中心建设项目、补充流动资金。公司将通过本次募集资金投资项目扩大高端半导体设备产能，抓住行业高速发展机遇。公司将通过本次募集资金投资项目战略布局薄膜沉积设备领域的前沿核心技术，开发可适用于前沿技术领域的新产品、新工艺。
更新时间：2026-08-06 15:39:17

【领先的行业地位】公司已构建较为完善的薄膜沉积设备、三维集成设备的产品矩阵，并实现国产化与规模化应用。薄膜沉积设备方面，公司凭借优异的产品性能表现持续获得客户订单，不断扩大量产规模。截至报告期末，公司产品已进入约100条芯片制造厂生产线；累计出货反应腔已超过3,400个，且应用于先进制程领域的高性能反应腔占比不断提高；在客户端产线生产产品的累计流片量已突破4.57亿片；客户端设备平均稳定运行时间（Uptime）超过90%（达到国际主流水平）。此外，在三维集成设备方面，公司推出多款核心产品，相关产品陆续通过客户验证并进入稳步放量阶段，是国内先进混合键合设备领域技术领先厂商。

【大基金持股】截至2025年12月末，国家集成电路基金持有公司16.03%的股份。
更新时间：2026-08-06 15:38:30

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◆成交回报(单位:万元)◆

交易日期:2026-07-21 披露原因:涨幅达15%的证券

当日成交量(万手):11.72 当日成交额(万元):807798.06 成交回报净买入额（万元）:-49367.79

买入金额最大的前5名
营业部或交易单元名称	买入金额(万元)	卖出金额(万元)
沪股通专用	42286.81	0
机构专用	21057.37	0
机构专用	18845.16	0
华宝证券股份有限公司上海东大名路证券营业部	17070.66	0
国泰海通证券股份有限公司总部	16387.24	0
买入总计: 115647.24 万元

卖出金额最大的前5名
营业部或交易单元名称	买入金额(万元)	卖出金额(万元)
沪股通专用	0	47144.95
国泰海通证券股份有限公司总部	0	34876.18
高盛（中国）证券有限责任公司上海浦东新区世纪大道证券营业部	0	30255.64
机构专用	0	29348.56
中国国际金融股份有限公司北京建国门外大街证券营业部	0	23389.70
卖出总计: 165015.03 万元

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证监会行业：行业：	制造业->专用、通用及交通运输设备->专用设备制造业专用设备入选理由：公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。自成立以来，公司始终坚持自主研发、自主创新，一直在高端半导体专用设备领域持续深耕、拓展，重点聚焦薄膜沉积设备和应用于三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备（以下统称“三维集成设备”）的研发与产业化。公司积极把握半导体芯片技术迭代升级与国产替代的发展机遇，依托深厚的技术储备及前瞻性的产业格局，积极拓展应用于集成电路先进制程领域的新产品、新工艺，目前已构建了较为完善的薄膜沉积设备、三维集成设备的产品矩阵。	所属地域:	辽宁
主营业务：
题材概念:	集成电路入选理由：公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。自成立以来，公司始终坚持自主研发、自主创新，一直在高端半导体专用设备领域持续深耕、拓展，重点聚焦薄膜沉积设备和应用于三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备（以下统称“三维集成设备”）的研发与产业化。公司积极把握半导体芯片技术迭代升级与国产替代的发展机遇，依托深厚的技术储备及前瞻性的产业格局，积极拓展应用于集成电路先进制程领域的新产品、新工艺，目前已构建了较为完善的薄膜沉积设备、三维集成设备的产品矩阵。、半导体入选理由：公司依托自主核心技术体系，构建了完善的产品矩阵。在薄膜沉积设备领域，推出了PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、FlowableCVD为核心的全系列薄膜沉积设备，其中，PECVD设备已实现薄膜材料的全面覆盖，在集成电路逻辑芯片、存储芯片等领域广泛应用；在ALD设备方面，推出了等离子体增强原子层沉积（PE-ALD）和热处理原子层沉积（Thermal-ALD）设备并实现量产，目前国内装机量及工艺覆盖均领先；HDPCVD、SACVD、Flowable CVD设备可实现芯片内不同深浅三维结构的填充需求，已在多条产线实现产业化应用。在三维集成设备领域，推出的晶圆对晶圆混合键合设备、熔融键合设备等系列产品已成功应用于先进存储、图像传感器等领域，可以为后摩尔时代技术发展提供支撑。、中芯国际概念入选理由：公司产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线，打破国际厂商对国内市场的垄断，与国际寡头直接竞争。公司在研产品已发往某国际领先晶圆厂参与其先进制程工艺研发。目前，全球半导体薄膜沉积设备市场由应用材料、泛林半导体、东京电子、先晶半导体等海外公司占据主导地位。、大基金概念入选理由：截至2025年12月末，国家集成电路基金持有公司16.03%的股份。、半导体设备入选理由：公司已构建较为完善的薄膜沉积设备、三维集成设备的产品矩阵，并实现国产化与规模化应用。薄膜沉积设备方面，公司凭借优异的产品性能表现持续获得客户订单，不断扩大量产规模。截至报告期末，公司产品已进入约100条芯片制造厂生产线；累计出货反应腔已超过3,400个，且应用于先进制程领域的高性能反应腔占比不断提高；在客户端产线生产产品的累计流片量已突破4.57亿片；客户端设备平均稳定运行时间（Uptime）超过90%（达到国际主流水平）。此外，在三维集成设备方面，公司推出多款核心产品，相关产品陆续通过客户验证并进入稳步放量阶段，是国内先进混合键合设备领域技术领先厂商。。
风格概念:	基金重仓入选理由：拓荆科技2026-07-03十大股东中基金持股1477.3249万股，占总股本5.07% 、大盘入选理由：拓荆科技 2026-08-28收盘市值1945.49亿元,全市场排名86 、沪深300 入选理由：公司为沪深300指数成分股、增持回购入选理由：公司公告股东有增持或者回购行为、百元股入选理由：拓荆科技2026-08-28收盘价669.29元,全市场排名第9 、融资融券入选理由：拓荆科技 2026年8月28日融资净买入-4438.76万元,当前融资余额:170855.71万元、年度强势。

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