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聚和材料(688503)内幕信息消息披露
 
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聚和材料:韩国SKE空白掩模版美国专利已全部转移至公司名下,上海空白掩膜版基地建设按期推进

http://www.gubit.cn  2026-10-13  聚和材料内幕信息

来源 :上证e互动2026-10-13

  聚和材料(688503)董秘你好,韩国SKE空白掩模版在美国的相关专利,是否已经全部转移到公司名下?上海空白掩膜版生产基地建设进度是否符合预期?

  尊敬的投资者,您好。韩国SKE空白掩模版在美国的相关专利,已全部转移至公司名下;上海空白掩膜版生产基地建设按期顺利进行。感谢您的关注!

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