来源 :上证e互动2026-08-13
路维光电(688401)请问公司PSM相移掩膜版（PhaseShiftMask)，是光刻工艺中的关键材料，公司是否己2突破的单层衰减型PSM和Mosi系双层PSM制造技术，可应用于G6及以下平板显示掩膜版以及半导体掩膜版？实现实现G6、G8.5TFT-Array用单层衰减型PSM客户导入及量产？实现i-line半导体PSM客户导入？烦请科普并正面回复下，多互动交流，谢谢
尊敬的投资者您好！在相移掩膜版PSM领域，公司于2021年完成衰减型相移掩膜版(ATTPSM)工艺技术研发并通过内部测试，2023年量产MetalMesh用PSM掩膜版，CF用PSM产品于2024年通过客户验证并量产，2024年完成单层衰减型PSM掩膜版制造技术及Mosi系双层PSM掩膜版制造技术研发；2025年实现G6、G8.5TFT-Array用单层衰减型PSM客户导入及量产，实现i-line的半导体PSM客户导入。后续进展请关注公司公告。感谢您的关注，祝您生活愉快！