来源 :搜狐网2026-08-15
国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司申请一项名为“开腔升降的调偏装置、调偏方法、开腔装置和半导体设备”的专利，公开号CN122561777A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明公开了一种开腔升降的调偏装置、调偏方法、开腔装置和半导体设备。该调偏装置包括：永磁体组，包括第一永磁体和第二永磁体，该第一永磁体，轴向安装于导向套筒的外周，其中，该导向套筒内设有升降丝杠，该升降丝杠的一端通过滑块连接腔盖，以使该滑块带动该腔盖沿该导向套筒的外壁升降；以及该第二永磁体设于该滑块的内周，与该第一永磁体为同名磁极且相对设置，以在该腔盖经由滑块沿该导向套筒上升时，提供周向对称的磁斥力，使得该滑块与该导向套筒之间为非接触悬浮间隙配合状态。本发明能够在腔盖开腔上升过程中，消除腔盖滑块与导向套筒间机械硬接触而产生的摩擦阻力，从而修正腔盖的径向偏移，提升升降系统的稳定性与可靠性。
天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目45次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息433条，此外企业还拥有行政许可40个。
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