中微公司公告：董事长尹志尧拟减持股份

中微公司发了一则公告：董事长尹志尧拟减持 0.046%股权，备注原因是「本人已从外籍恢复为中国籍，为依法办理相关税务的需要」。一家市值两千亿的硬核科技公司，掌舵人减持，股民却安静了——答案就在那行小小的备注里。

　　从硅谷顶尖专家到回国创业

　　1944 年尹志尧生于北京，中科大读化学物理、北大读研，36 岁赴美，在加州大学洛杉矶分校拿下博士。

　　此后二十年，美国三大芯片设备巨头他轮转了一遍：英特尔做工艺工程师、泛林半导体做研发，最后进入全球最大的设备公司应用材料，做到副总裁、刻蚀产品事业部总经理。

　　个人名下 80 多项美国专利，被公认为等离子体刻蚀领域最有影响力的专家之一。

　　刻蚀是什么？芯片制造三大核心工艺是光刻、刻蚀、薄膜沉积。尹志尧打了个比方：薄膜沉积是铺红纸，光刻是在纸上画花纹，刻蚀就是那把剪刀，把不该有的部分剪掉，每一代制程都绕不开这把剪刀。

　　2004 年，时任上海市经委副主任的江上舟找到他，劝他回国自己干。那一年尹志尧 60 岁，本可在硅谷功成名就，却辞去应用材料副总裁，回上海创办中微。

　　目标就一个：做出中国人自己的刻蚀机。当时美日巨头垄断几十年、专利壁垒密不透风，外界普遍认为一家中国初创公司活不下来。

　　在诉讼与封锁中突围

　　2007 年 6 月，中微第一台双反应台 CCP 刻蚀设备研制成功，可用于 12 英寸晶圆、覆盖 65 至 45 纳米，实现国产高端刻蚀从 0 到 1 的跨越。麻烦立刻上门：应用材料在美国起诉中微侵权，泛林跟进。

　　尹志尧的应对是教科书式的——研发上推严苛的「净室」流程、设计之初就做专利规避；法庭上请顶尖律师自证核心技术的自主研发，甚至直接向法官展示独立设计的反应腔室结构。

　　另外，2009 年中微在上海反诉应用材料不正当竞争，官司拉锯两年半后 2010 年和解，此后泛林再起诉均以中微胜诉告终。

　　此后，中微不断刷新成绩单：开发出 18 种等离子体刻蚀设备，覆盖 65 纳米到 5 纳米。

　　?2010 年从零起步做 MOCVD，打破美德垄断；

　　?2015 年，美国商务部解除对中国高端刻蚀设备的出口管制，理由写得很直白——中微的刻蚀机已研发成功并量产，封锁「已无必要」。封锁是被打破的，不是被取消的。

　　?2018 年首次入选 5 纳米产线；

　　?2019 年登陆科创板。

从「涉军清单」到放弃美籍

　　考验没停。2021 年美国防部把中微公司列入「涉军清单」，同年中微申诉移除；2024 年又列进去，理由是中微 2019 年获工信部颁发的刻蚀机「制造业单项冠军产品奖」——拿了个奖，被扣「涉军」。中微的回应和此前一样硬：2024年8月向美国法院起诉美国国防部，四个月后美方主动撤出清单。

　　比被美国防部列入「涉军清单」影响更大的事情发生在2022年10月：美国商务部对华半导体出口管制新规里有一条「美国人条款」，美籍人士未获许可不得支持中国境内先进芯片研发，中微先后有五位美籍专家因此离开。

　　尹志尧的回应是：放弃美国籍，恢复中国籍。他早年自述，在美国多年始终存着对祖国的欠缺感——「应该给自己的国家做事情」。如今 82 岁的他仍保持极高工作强度，冲在科研和管理第一线，认为中国半导体设备与国际最先进还有「两三代」差距，要用 5 到 10 年追上。

　　他恢复中国籍这件事，不是做给别人看的，是做给 36 岁那年登上去美国飞机的年轻人看的。