来源 :深交所互动易2026-07-30
irm1347477问国林科技(300786)公司的高纯臭氧发生器是否支持HfO?、Al?O?、ZrO?、TiO?、IGZO等先进半导体氧化物的薄膜制备？
2026-07-27 17:34:50
国林科技答irm1347477
尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。详细产品技术信息请查阅子公司国林半导体官方网站（https://www.guolinsemi.com/）或定期报告进行了解。感谢您对的关注。
2026-07-30 11:30:03