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捷佳伟创(300724)内幕信息消息披露
 
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(深互动)捷佳伟创:已量产6-12英寸湿法刻蚀清洗设备,覆盖晶圆制造等多领域

http://www.gubit.cn  2026-07-31  捷佳伟创内幕信息

来源 :深交所互动易2026-07-31

  irm1989285问捷佳伟创(300724)董秘您好,SEMI预测2026?2028全球半导体设备市场规模持续高增。请问公司目前已量产、以及处于规划研发阶段的半导体设备分别有哪些,主要应用于什么赛道、什么工艺环节?半导体设备业务今年有无扩产或者加大投入的计划?

  2026-07-24 11:40:56

  捷佳伟创答irm1989285

  您好!公司在半导体领域,主要产品有6到12吋批式及单晶圆刻蚀清洗湿法工艺设备,包含有晶圆的湿法刻蚀,晶圆湿法清洗,光掩膜石英衬底与光掩膜版的刻蚀与清洗,光学玻璃的清洗等,产品覆盖6-12英寸晶圆制造、第三代半导体(SiC/GaN)、硅基功率器件、光掩膜板及先进封装领域,可提供整厂湿法设备“工艺+设备+服务”的一体化交付。同时公司也在研发其他半导体及泛半导体相关设备。谢谢!

  2026-07-31 17:13:03

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